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• NEW POWER PLASMA

RF Generator

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• RF Generator

  
  
  RF Generator는 박막형 태양전지 및 LCD제조에 있어 핵심인 전공정장비 (CVD, Dry Etcher)에 공정플라즈마를 형성할 수 있게 공정 Chamber에 고주파 전원을 공급하여 주는 장치입니다. LCD 제조공장에서 일반적으로 공급되는 상업전원 (주파수 : 50/60Hz)의 3상 220V, 400V, 440V 또는 480V의 교류전원을 공급받아 통상적으로 13.56MHz 혹은 그 이상의 고주파로
  변환하는 Converter 장치이며, RF 전원 Source로 사용됩니다.
  
  최근 반도체 회로의 패턴이 미세화 되고 3D구조로 입체화 되면서 공정이 매우 복잡해지고 이에 따라 여러 주파수(2MHz, 3.2MHz, 13.56MHz, 27.12MHz, 60MHz)와 다양한 기능
  (Pulse, 주파수가변 등)을 사용하는 추세이며, 반도체 ALD, CVD 공정의 경우 멀티의 첨단 기능을 갖춘 1~3kW급 출력의 RF Power를 사용하고 있습니다. 또한, 공정에서의 수율 증대를
  위해 공정 중 발생하는 Arcing의 억제, 정합시간 최소화 및 반사파(Reflected Power)최소화, 공정 중 변화하는 Chamber 환경 Monitoring, 순간 정전 대응 등과 같은 요구에 부응하는
  부가적 기능이 요구되고 있습니다.

• 제품특징

    VFG(Variable Frequency Generator)

    Pulse function added

    Arc detection

    Low distoration wave from at miss match status

    Acceptable wide band width load

    Perfect protection on unlimited load Impedance

    Stable power regulation

    Compact size & light weight

    Customization

• 구분		SEMI	DISPLAY	SOLAR
  CVD/PVD	PECVD
  	PEALD
  	LPCVD
  	PVD
  DRY ETCH	POLY
  	METAL
  	OXIDE/NITRIDE
  	PR STRIP
  용량		~10kW	10kW~	~10kW
  주요주파수		400kHZ, 13.56MHz, 2MHz, 60MHz	13.56MHz, 3.2MHz	13.56MHz