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• NEW POWER PLASMA

RPG

• Product Overview
• RPG
• RF Generator
• Matching Network

• RPG

  
  
  반도체 및 LCD 제조 생산성 향상을 위한 환경친화형 Remote Plasma Source (Remote Plasma Generator)는 반도체 및 LCD 제조공정에서 증착공정 후 챔버 내부에 쌓이는 Si(실리콘)을
  화학적으로 세정하기 위한 F(불소) RADICAL을 공급하는 원격 고밀도 플라즈마를 발생시키는 제품입니다.
  증착공정을 수행하는 챔버 내부에는 공정을 수행하면 할수록 그에 상응하는 Si 파우더(powder)가 챔버 내부 표면에 누적되어 쌓이는 것을 피할 수 없으며, 현재 챔버 세정기술은
  챔버의 진공을 유지한 상태에서 원격 플라즈마 (Remote Plasma)를 통해 다량의 불소 (Fluorine) 라디칼 활성 종을 공급하여 식각하는 기술을 적용하고 있습니다. Remote Plasma 세정방식은
  플라즈마 발생장치가 챔버와 분리되어 간접적으로 플라즈마를 발생시키므로 챔버의 손상없이 박막을 신속하게 세정하며 고출력 고효율 400kHz 고주파 전원장치와 페라이트 코어를 이용한
  고밀도 플라즈마 소스를 결합한 플라즈마 발생장치를 통하여 기존대비 100～1000배 향상된 고밀도 플라즈마를 발생시킬 수 있습니다.
  
  
  
  
  

• 제품특징

    Eco-Friendly, reducing PFC gas by 95%

    Non-necessary vent (Down time minimization)

    Particle free

    Wide Pressure range operation

    Ultra-light plasma chamber

    Various display window

    Set power function through electronic matcher

    Avaliable to utilize various ignition gas

    High Etch Rate

• RPG Application
  Cleaning RPG    Process RPG

  구분	CVD		ALD/LPCVD		DRY ETCH
  	Semi	Display	Semi	Display	Semi	Display
  PECVD
  PEALD
  HDPCVD
  LPCVD
  METAL ETCH
  MACHER
  PR STRIP

  
  
  
  
  Product Family

  구분	Product		Physical		Application Process
  	NF3 Gas	Power	Single Body	Separate Module
  SEMI	6 slm	10kW			PECVD
  	7 slm	10kW
  	8 slm	10kW
  	9 slm	10kW
  	14 slm	15kW			HDP CVD , PEALD, ALD
  Display	36 slm	18kW/20kW			PECVD
  	45 slm	22kW
  	60 slm	30kW