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公司简介


本公司是供应半导体和显示器等行业领域利用Plasma的工艺设备（Dry Etch、Thin Film、Diffusion等
的核心配件——射频电源装置和Matcher，以及应用于Thin film、Diffusion、PR strip等工艺设备的Remote Plasma Source System等的核心配件企业

CEO Greeting

感谢您访问New Power Plasma。

Vision

New Power Plasma不断追求发展。

BUSINESS

介绍New Power Plasma的多项业务。

certification

New Power Plasma的实力在多处得到了认可。

HISTORY

New Power Plasma的发展历程。

LOCATION

New Power Plasma的大门随时为您敞开。

製品


介绍New Power Plasma多样的产品群。

RPG

提高半导体和LCD生产效率的环保型Remote Plasma Source 是远程高密度等离子体发生器产品，用于半导体和LCD制造工艺的气相沉积工艺后，供给氟（F RADICAL）来清洗沉积在腔体内部的硅。

RF Generator

射频发生器是向薄膜太阳能电池和LCD制造的核心部分的前工艺(CVD, Dry Etcher)设备中可形成等离子的腔体提供高频电源的装置

Matching Network

阻抗匹配网络（Impedance Matching Network）是将射频发生器输出的射频电源的最大功率高效传送到工艺腔体的装置

New Biz

Comming next season

株式精報


Global Networks


在世界的舞台上具有竞争力的New Power Plasma会持续不断地创新，挑战世界市场、争创新的巅峰。