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• NEW POWER PLASMA

RPG

• Product Overview
• RPG
• RF Generator
• Matching Network

• RPG产品

  
  
  提高半导体和LCD生产效率的环保型Remote Plasma Source（Remote Plasma Generator）是远程高密度等离子体发生器产品，用于半导体和LCD制造工艺的气相沉积工艺后，供给氟（F RADICAL）来清洗沉积在腔体内部的硅。随着工艺的进行，在腔体内部表面会沉积大量的硅粉尘。以目前的腔体清洗技术通过远程等离子体（Remote Plasma）提供大量氟（Fluorine）对真空条件下的腔体进行蚀刻清洗。 远程等离子体清洗方式是在等离子体发生器与腔体分离的状态下间接生成等离子体，因此不损伤腔体并快速清洗薄膜。400kH高输出高效率的高频电源装置与利用铁氧体磁芯的高密度等离子体源相结合组成的等离子体发生装置可以生成密度提升100~1000倍的高密度等离体子。
  
  
  
  
  

• Product Features

    Eco-Friendly, reducing PFC gas by 95%

    Non-necessary vent (Down time minimization)

    Particle free

    Wide Pressure range operation

    Ultra-light plasma chamber

    Various display window

    Set power function through electronic matcher

    Avaliable to utilize various ignition gas

    High Etch Rate

• RPG Application
  Cleaning RPG    Process RPG

  Item	CVD		ALD/LPCVD		DRY ETCH
  	Semi	Display	Semi	Display	Semi	Display
  PECVD
  PEALD
  HDPCVD
  LPCVD
  METAL ETCH
  MACHER
  PR STRIP

  
  
  
  
  Product Family

  Item	Product		Physical		Application Process
  	NF3 Gas	Power	Single Body	Separate Module
  SEMI	6 slm	10kW			PECVD
  	7 slm	10kW
  	8 slm	10kW
  	9 slm	10kW
  	14 slm	15kW			HDP CVD , PEALD, ALD
  Display	36 slm	18kW/20kW			PECVD
  	45 slm	22kW
  	60 slm	30kW